3

Segondè pite alumina + Silisyòm carbure seramik pore-Semiconductor-Seramik vantouz

Deskripsyon kout:

Gen eksperyans rich nan semi-conducteurs ki gen rapò pati seramik pwodiksyon ak netwayaj.


  • Non pwodwi:Ventouz seramik
  • Materyèl:High-pite aliminyòm oksid + Silisyòm Carbide pore seramik
  • Karakteristik:Poriness45-50-40%, Ouverture soti nan 2um a 100um yo opsyonèl.
  • Aplikasyon:Semiconductor
  • Endistri:Wafer adsorption fixation
  • Pwodwi detay

    Tags pwodwi

    Jaden aplikasyon yo

    Semiconductor

    Aplikasyon espesifik

    Wafer adsorption fixation

    Difikilte nan pwosesis

    Flatness nan do a se 1um, bò devan an pote sèten frigidité, ak fòs la absòpsyon se envaryab.

    Pwosesis koule

    Poud - granulasyon - bòdi - SINTERING - amann D - deteksyon - netwaye

    Tan livrezon (jou)

    35 jou

    cus_banner

    Ajoute

    Building 1, No 32, North Gaobu Plaza Road, Gaobu Town, Dongguan City, Guangdong Province, Lachin

    Tel

    +86-769-28825488

    MP

    +86-13826964454 (Mesye Zhang)

    Mail

    eric@nuoyict.com


  • Previous:
  • Pwochen:

  • Ekri mesaj ou la a epi voye l ba nou